西安白癜风医院 http://www.bdfzkyy.com/在半导体行业中，清洁真空系统（HV）、制程真空系统（PV）扮演着至关重要的角色：
一、清洁真空系统（HV-HouseVacuum）
1、原理
HV系统通过真空泵产生负压来吸走车间粉尘和杂质。当系统运行时，粉尘通过吸尘嘴被吸入真空管网，在负压的作用下，粉尘随气流被输送至吸尘主机。大颗粒粉尘在进风口导流板的作用下落入集尘桶，而轻质粉尘则被粉尘过滤器捕获，清洁空气通过消音器和排风出口排出至环境中。
2、组成结构
HV系统由以下几个主要部分组成：
1）.吸尘主机：负责产生负压并过滤粉尘。一般为多台，轮流启动。
2）.控制系统：监控和调节整个系统的运行。可以在主管道设置压力变送器或各个管网支点设置差压计，以便实时监测及其检修等。
3）.吸尘管路：连接吸尘主机与吸尘点的管道。管网通过主管道配至各个末端使用点。配管一般设置为斜三通或者45°弯头。避免使用正三通和90°弯头容易产生堵塞。
4）.吸尘阀门：控制气流的开关。一般在末端使用端口，堵头阀门自动封堵，使用时打开即可使用。阀门处设置大颗粒过滤器防止吸入管网形成堵塞。
5）.吸尘操作组件：包括真空清扫口（边墙型/地板型）、清扫口连接弯头（边墙型）、清扫口连接件（地板型）以及开关盒等。
3、控制方式
（1）方式一：维持一定范围的真空度方式
HV系统通常采用自动化控制，能够实现全天24小时、一周7天的连续运行。控制系统可以设定真空度的上下限值，当真空度低于下限时，系统会自动启动真空泵，直到真空度超过上限值。系统还可以在停电时自动封闭，以保护真空泵马达过载及短路。
（2）方式二：电话远程遥控启动
通过车间使用端人员电话拨打启动。程序设定启动维持一定时间后（比如运行30min）停止。下次需要使用时再进行拨打启动。同时程序设定真空泵的交替运行。该种方式有利于节能，对使用者来说相对放缩。
4、应用
在半导体行业中，HV系统不仅用于维持洁净室的清洁，还用于设备内部的清洁，以防止有害副产品的积累。这些系统的设计旨在减少设备自身产生的污染，提高生产效率和产品质量。
由于半导体制造过程对环境清洁度的要求极高，HV系统通过有效的粉尘捕集和过滤，确保了生产环境的高标准清洁度，从而提高了半导体产品的质量和可靠性。
综上所述，HV系统是半导体行业中不可或缺的一部分，它通过高效的除尘和过滤技术，保证了生产环境的清洁，从而确保了半导体产品的质量和生产效率。
二、制程真空系统（PV）
在半导体行业中，制程真空系统（PV）是用于维持特定真空环境的关键系统，它对于半导体芯片的生产至关重要。以下是PV系统的一些基本信息：
1、原理
制程真空系统通过使用真空泵来抽取空气或其他气体，从而在半导体制造过程中创建一个低压环境。这种低压环境对于许多工艺步骤是必要的，如光刻、刻蚀、薄膜沉积、吸笔等。
2、组成结构
PV系统通常包括以下部分：
1）.真空泵：用于产生和维持真空，可以是干式真空泵、分子泵等。
2）.PLC程序控制系统：用于监控和控制真空系统的运行。
3）.储气罐：储存一定量的气体，以稳定系统的压力波动。
4）.真空管道：通过储气罐配管连接至各个使用端组件和工艺设备。
5）.真空阀门：控制气体流动，用于检修等等。
6）.过滤总成：空气过滤器、过滤气体中的杂质。
7）.变送器：用于监测储气罐主负压。通过PID控制真空泵启动停止，维持一定范围内的负压值。
3、控制方式
PV系统的控制通常是自动化的，采用PLC控制系统设定上下限值。当真空度低于下限时，系统会自动启动真空泵，直到真空度超过上限。若设置多台真空泵时，设置轮流运行方式实现全自动控制，并在停电时自动封闭，同时控制箱可以保护真空泵马达过载及短路。
4、应用
在半导体制造中，PV系统用于多个环节，包括晶片加工、薄膜涂覆、化学气相淀积、等离子体刻蚀等。它的作用主要是抽取工艺腔的气体，去除颗粒与多余的水汽等杂质，以及控制气压，实现对半导体器件制造过程中的精确控制。
由于半导体产品的制造过程对环境的清洁度和精确度要求极高，PV系统通过维持所需的真空度，确保了工艺的稳定性和产品的高质量。此外，真空系统的维护和维修对于保证生产效率和产品质量同样重要。
5、维护
定期的检查和维护可以确保真空系统的稳定运行（比如定期更换真空油、油过滤器、空气滤芯等等），预防故障发生，降低生产中的非计划停机时间。这对于保持半导体生产的连续性和效率至关重要。
